Плазменные технологические процессы микроэлектроники

Лекция Андрея Мяконьких, к.ф.-м.н., старшего научного сотрудника лаборатории микроструктурирования и субмикронных приборов и руководителя лаборатории функциональных диэлектриков Физико-технологического института им. К.А. Валиева РАН — базового института кафедры наноэлектроники и квантовых компьютеров ФЭФМ. О чём лекция? Успехи микроэлектронной технологии связаны, в первую очередь, с технологиями, позволяющими создавать микроструктуры с заданными свойствами и размерами. Лидирующее место среди таких технологий занимают технологические процессы, выполняемые в плазме. В лекции рассмотрены основы физики низкотемпературной неравновесной плазмы и плазменные процессы микроэлектроники, как основные: плазменное травление, плазменно-иммерсионная имплантация, атомно-слоевое осаждение, так и новые: атомно-слоевое травление, травление пористых диэлектриков.