16-28 нанометров , В России начата разработка безмасочного фотолитографического оборудования

Минпромторг России выделил средства на создание безмасочного рентген-фотолитографа «на базе синхротронного и/или плазменного источника» Национальному исследовательскому университету «МИЭТ» (Зеленоград). Стартует разработка технологии для создания в будущем отечественной установки фотолитографии на базе экстремального ультрафиолетового (ЭУФ или EUV, рентгеновского) источника излучения с длиной волны менее 13,5 нм. Такие фотолитографы рассчитаны на достижение проектных норм вплоть до 10 нм и менее, сегодня их разрабатывает и производит в мире только одна компания – ASMLithography (Нидерланды). У зеленоградских ученых уже есть наработки в направлении безмасочной EUV-фотолитографии, в том числе исследования, проведённые совместно с другими российскими научными коллективами. В проекте будут задействованы также другие предприятия города – компания ЭСТО и зеленоградский синхротрон («технологический накопительный комплекс (ТНК) «Зеленоград» НИЦ «Курчатовский институт»). санкции россии,россия ввела санкции,какие санкции ввела россия,ответные санкции россии